第2205章 光刻机巨头的诞生（第二更，求订阅）

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    光刻机。

    虽然在这个时代，光刻机还没有获得“超精密尖端装备的珠穆朗玛峰”的头衔，但是伴随着光刻机的发展，其对技术的要求也就越来越高了。

    也正因如此，相比于十几年前的35家光刻机制造商，现在SEA只剩下三家光刻机制造商，一个是GAD公司，他设计制造出了第一台接触式光刻机，是世界最早生产光刻机的企业，依靠先发优势以及与蔡司公司的合作，始终都是这一领域内的强者，再就是蔡司公司——其凭借先进的光学技术杀入光刻机市场，并且击败一个个对手。

    第三个则国王试验室，相比于前两者，他的技术优势更加明显，六年前，其与国际电子公司，也就是世界上最大的半导体跨国公司——IEC，成立了KIEC公司。

    虽然KIEC是最晚入局，但是凭借着其在光刻机技术领域的深耕，使得其一进入这一领域，就成为其中的佼佼者。

    两个月前KIEC推出了I线光刻机，半导体制造中使用特定波长近紫外光源的光刻设备，其核心特征是采用365纳米波长的汞灯光源进行曝光工艺。从而实现0.35微米的特征尺寸。

    也正凭借着这一优势，让KIEC一跃超过GAD，成为新一代的光刻机制造商的王者。

    不过，无论是KIEC，还是GAD都离不开永宁蔡司，毕竟，他是光学技术的王者，正因为三家各有各的优势，所以在细分市场领域，他们都有自己的优势。

    但是又有谁能够满足于此呢？

    至少对于KIEC的经理伊曼纽尔来说，他并不满足于现况，或者说，他还有更高的追求。

    “我们要成为王者！”

    在餐厅里，看着面前的两位客人，伊曼纽尔说道：

    “这个王者，是摘取光刻机领域内的王冠。”

    在说话时，他的目光依次投在张敬业——他是GAD公司的老板，还有永宁蔡司经理奥托的身上，这次邀请是他发出的。

    “众所周知，伴随着光刻机的技术进步，它对光学、精密机械、电气、测控、材料等多个单项技术的要求也越来越高，这也是大量企业被淘汰的原因，诸多在光刻机中都需要被推向极致，才能满足其分辨率、套刻精度和产率三大指标的严苛要求，而技术方面的复杂性也使得光刻机制造的产业生态复杂，研发投入成本高、研发组织管理难度大。”

    张敬业点了点头，他并没有说话，他很清楚现在光刻机的技术难题在不断的增加，研制成本也在增加。而GAD虽然是最早的光刻机制造企业，但事实上，他是三家公司中技术力量最薄弱的一家。

    虽然他们推出了4800DSW光刻机，推动了半导体产业的爆发式增长，帮助多家公司实现1微米工艺量产，但是，在过去的几年间，新光源的研制中，一直落后于另外两家公司。

    永宁蔡司有一流的光学技术，而KIEC则拥有国王试验室和IEC的技术支持，他的技术实力最雄厚。

    “而且光刻机系统极为复杂，由十几个甚至几十个分系统组成，其中包括光源系统、光学系统、工件台/掩模台系统、自动对准系统、调焦调平测量系统、硅片/掩模

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